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Innoscience

Innoscience est une entreprise de haute technologie qui se consacre à la recherche, au développement et à la fabrication de dispositifs et d'épitaxie de nitrure de gallium (GaN) à base de silicium de troisième génération. L'entreprise utilise le modèle de la chaîne industrielle complète de fabrication de dispositifs intégrés (IDM) et a mis en place la première ligne de production au monde dotée de la plus grande capacité de production en masse de plaquettes de 8 pouces de GaN-sur-Si.

Fondée le 17 décembre 2015, Innoscience a compris dès le départ que l'adoption généralisée de la technologie du nitrure de gallium (GaN) par le marché nécessitait plus que des performances et de la fiabilité. Il était nécessaire de répondre à trois points de douleur cruciaux.

  • Tout d'abord, le coût était impératif ; un prix raisonnable était essentiel pour une large adoption.
  • Deuxièmement, la capacité de production à grande échelle était indispensable pour répondre aux demandes du marché.
  • Enfin, il était essentiel de garantir une chaîne d'approvisionnement stable pour les dispositifs, ce qui permettait aux clients de se concentrer entièrement sur le développement de produits et de systèmes sans se soucier des interruptions de production dues à des changements dans la stratégie d'approvisionnement en dispositifs GaN.

 

Innoscience a donc compris que ce n'est qu'en augmentant la capacité de production de dispositifs GaN et en possédant une ligne de production contrôlable de manière indépendante que les trois problèmes (prix, quantité et sécurité d'approvisionnement) pourraient être résolus efficacement, ce qui permettrait de promouvoir largement les dispositifs électroniques de puissance GaN sur le marché.

Dès le départ, Innoscience a stratégiquement adopté des plaquettes de 8 pouces. Par rapport aux plaquettes de 6 pouces, les plaquettes de 8 pouces produisent 80% de dispositifs en plus. En outre, Innoscience a tiré parti des processus C-MOS, en appliquant des années d'expérience et des mesures d'optimisation dans le domaine de la production de transistors au processus de production des plaquettes de GaN.

Aujourd'hui, Innoscience a réalisé ses projets initiaux. Actuellement, l'entreprise possède deux installations de production de GaN à base de silicium de 8 pouces utilisant des processus de production de pointe de 8 pouces, ce qui en fait le principal fabricant de dispositifs GaN avec la plus grande capacité de production mondiale.

Actuellement, la capacité de production de GaN à base de silicium de 8 pouces d'Innoscience a atteint 10 000 plaquettes par mois, et il est prévu de l'augmenter progressivement jusqu'à plus de 70 000 plaquettes par mois et au-delà.

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Composants électroniques

HEMT GaN HV

Numéro de pièceConfigurationPaquetVDS max(V)RDS(on)_typ(mΩ)RDS(on) max (mΩ)QG(nC)Qoss(nC)ID max (A)IDPuls max(A)Modèles
INN650D140AUniqueDFN 8X86501061403.5331732disponible
INN650DA140AUniqueDFN 5X66501061403.5331732disponible
INN650N140AUniqueWAFER6501061403.5331732disponible
INN650D190AUniqueDFN 8X86501381902.824.511.520.5disponible
INN650DA190AUniqueDFN 5X66501381902.824.511.520.5disponible
INN650N190AUniqueWAFER6501381902.824.511.520.5disponible
INN650D240AUniqueDFN 8X86501652402211018disponible
INN650DA240AUniqueDFN 5×66501652402211018disponible
INN650N240AUniqueWAFER6501652402211018disponible
INN650D350AUniqueDFN 8X86502703501.513610disponible
INN650DA350AUniqueDFN 5X66502703501.513610disponible
INN650N350AUniqueWAFER6502703501.513610disponible
INN650DA500AUniqueDFN 5X66503655001.310.559disponible
INN650N500AUniqueWAFER6503655001.310.559disponible
INN650DA600AUniqueDFN 5X66504706000.77.33.36disponible
INN650N600AUniqueWAFER6504706000.77.33.36disponible
INN650N05(ancien P/N)UniqueWAFER6506208000.7525disponible
INN650N2K2AUniqueWAFER650160022000.220.81.6disponible
INN650D080BSUniqueDFN 8X865060806.2602958disponible
INN700DC140AUniqueDFN 5X67001061403.5331732disponible
INN700DC240AUniqueDFN 5X67001652402211018disponible
INN700DC350AUniqueDFN 5X67002703501.513610disponible

LV GaN HEMT

Numéro de pièceConfigurationPaquetVDS max(V)RDS(on)_typ(mΩ)RDS(on) max (mΩ)QG(nC)Qoss(nC)ID max (A)IDPuls max(A)Modèles
INN040W048ABidirectionWLCSP 2.1X2.14044.815.812.220100disponible
INN040W080ABidirectionWLCSP 1.7X1.7406.1810.181470disponible
INN040W120ABidirectionWLCSP 1.2X1.7409127.25.61050disponible
INN040FQ012ABidirectionFCQFN 6X4400.91.26045100200disponible
INN040FQ015AUniqueFCQFN 5X4401.21.5285850200disponible
INN040FQ043AUniqueFCQFN 4X34034.36.21424160disponible
INN100W032AUniqueWLCSP 3.5X2.131002.43.29.25060230disponible
INN100W027AUniqueWLCSP 4.45x2.301002.12.7137764320disponible
INN100W070AUniqueWLCSP 2,5x1,51005.574.52529125disponible
INN100FQ016AUniqueFCQFN 4X61001.41.822125100320disponible
INN100FQ025AUniqueFCQFN 3X51002.22.8148580320disponible
INN150FQ032AUniqueFCQFN 4X61503.23.920130100260disponible
INN150LA070A*UniqueLGA 2.2X3.21505.677.646.828120disponible
ISG3201SolidGaN (conducteur + demi-pont GaN)LGA 5x6.5x1.11002.4+2.43.2+3.29.2+9.250+5060N/AN/A

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